355nm增透膜的設計
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外激光由于具有波長短、易聚焦、能量集中 、分辨率高等優點 ,已在許多領域,比如超大容量第四 代高密度光盤、激光聚變能電站、激光微加工、光刻 技術 、 醫學診斷 、 光譜分析和科學研究等領域顯示出 廣闊的應用前景 。通常紫外激光器有準分子激 光器 ,N 2 激光器及三, 四倍頻 Nd∶ YAG 全固態紫外 激光器等。 與其他紫外激光器相比,全固態紫外激光 器具有效率高、光束質量好 、 壽命長 、 性能可靠、 小型緊湊等優點, 越來越受到重視。
為了降低全固態紫外激光器中各種光學元件表 面的反射損耗,提高轉換效率,增加紫外倍頻光的功率輸出 ,必須在光學元件表面鍍制增透膜。這些紫 外增透膜的光學性能和抗激光損傷能力將直接影響 到紫外激光器的效率和使用壽命 ,所以研制高的光 學性能、 好的穩定性和抗激光損傷能力的紫外增透 膜具有重要的意義。氟化物材料由于其優異的紫外 性能而備受重視 。本文通過采用擋板的簡單 方法設計制備了355 nm氟化物紫外增透膜 ,并對薄 膜的性能進行了初步研究 。
355nm增透膜的膜層監控
由于普通鍍膜機的控制波長為可見光波段, 光 電倍增管在 500 ～ 700 nm范圍內比較靈敏 , 所以在 制備紫外薄膜時受到限制 。如果換用配有紫外光路 的鍍膜機 ,不僅費用昂貴 ,而且會降低設備的利用效率與使用性能。如果在普通鍍膜機的基片與蒸發源 之間使用膜厚修正擋板 ,可以方便地解決這個問題。 圖 3 是所使用的圓形 2/3 膜厚修正擋板, 在制備 355 nm的增透膜時 ,控制波長為500 nm 。
355nm增透膜性能測試
薄膜的低反光譜和透射光譜由 Perkin Elmer 公司生產的 Lambda 900 光譜測試儀進行測量 , 測 試的波長 范圍為 300 ～ 400 nm , 波長 分辨率 為 1 nm 。 薄膜的表面缺陷密度用 Nomarski 顯微鏡在 暗場下進行觀察 ,放大倍數為 100 倍 。薄膜的激光 損傷閾值測試按照 ISO11254 -1 國際標準, 采用 1 -ON-1方式 。損傷閾值測量裝置是由355 nm Nd∶ YAG 激光系統( 脈寬8 ns) , He- Ne 準直光源 , 分光鏡,聚焦凸透鏡 ,二維可移動樣品平臺 ,CCD 和能量 計等組成 。用衰減片實現激光脈沖能量的調整 , 同 時每次測量都利用激光能量計實時監測脈沖能量 , 以消除激光能量輸出隨機起伏的影響。整套系統用 電腦進行控制 。樣品的損傷閾值取零損傷概率 時的能量密度。這種方法表征了損傷的臨界行為 , 排除了實驗過程中樣品不均勻性和環境不穩定等偶 然因素的影響, 實驗結果更可靠 。樣品的激光破壞形貌用 Nomarski 顯微鏡觀察
550-620nm熒光帶通濾光…
賡旭光電生產的熒光濾光片成像后顏色純凈，亮度高，背景幽暗，可保證膜層致密并且長時間的使用壽命。由于是自己生產熒光濾光片，可以100%控制濾光片的成本以及質量控制。
635nm紅色濾光片
光學指標：中心波長：635±2nm透過率：T>91%半帶寬：40nm截止率：T<0.1%
30:70分光鏡
分光鏡（T:R=30:70）規格：80*80mm，90*90mm，140*140mm等（加工任意尺寸——方形，圓形）厚度：0.35mm，0.55mm，0.7mm，1.0mm，2.0mm，2.5mm，3.0mm，4.0mm，5.0mm 分光鏡波長從400~700nm分…
日夜兩用濾光片
光學性能指標：T≥90% @ 420nm～630nmT ≤5% @ 680nm～800nmT≥90% @ 850+/-10nmT ≤5% @ 900nm～1100nm
