214nm窄帶濾光片作為濾光和選擇譜線的器件,在激光技術(shù),醫(yī)療,衛(wèi)星遙感探測以及 目前正在飛速發(fā)展的光通訊技術(shù)中有著廣泛的應用。窄帶濾光片鍍制難度高,成品率 低,成本高。本文提出的214nm窄帶濾光片的間隔層干涉級次相對較低,可以極大降低鍍制 難度和成本。

根據(jù)材料的特性及薄膜的沉積條件選擇合適的材料進行膜系設(shè)計。在制備過程中 采用光控法與晶控法相結(jié)合的方法監(jiān)控膜厚,利用離子輔助沉積系統(tǒng)改善成膜結(jié)構(gòu),提 高膜層牢固性。根據(jù)鍍膜條件對成膜質(zhì)量的影響,優(yōu)化了工藝參數(shù)。

美國公司和實驗室聯(lián)合設(shè)計一種微型光譜儀,這種光譜 儀的核心結(jié)構(gòu)是微型窄帶可調(diào)濾光片。它通過改變施加在某種晶體上的射頻頻率來改 變通過濾光片的光波長,而通過光的強度可利用改變射頻的功率進行精密,快速的調(diào)節(jié)。它的分辨率很高,目前可以達到二,沒有可動部件,波長調(diào)節(jié)速度快,靈 活性高。這種基于的反射型近紅外微型光譜儀主要應用于航天領(lǐng)域,使用發(fā)光二 極管陣列作為光源。光纖作為光波傳輸介質(zhì),高可靠性并經(jīng)過美國國防核子局的防輻 射測試。